|
|
|
|
/ MÁSTER PROPIO EN DISEÑO DE MODA INTEGRAL POR LA UNIVERSIDAD POLITÉCNICA DE MADRID
La estructura modular del Máster de Título Propio de la Universidad Politécnica de Madrid ha arrancado con un curso de Especialista en Diseño de Moda que combina la formación en Patronaje, Confección y Diseño de moda, impartida por profesores del CSDMM – UPM entre los que se encuentra el diseñador, Antonio Burillo del tándem creativo de The 2nd Skin. Los alumnos originarios de China, Argentina, Chipre, Chile y España están muy satisfechos con la enriquecedora experiencia que ha supuesto, para todos ellos, este máster.
1. Módulo de Patronaje by Antonio Burillo (Del 10 de septiembre al 9 de octubre de 2018)
2. Módulo de Confección by Antonio Burillo (Del 15 de octubre al 16 de noviembre de 2018)
3. Módulo de Diseño de Moda by Juan Vidal (Del 19 de noviembre al 20 de diciembre de 2018).
4. Módulo de Punto by Maria Ke Fisherman (Del 4 al 28 de febrero de 2019).
5. Módulo de Lencería y Corsetería by Maya Hansen (Del 4 al 30 de marzo de 2019).
6. Módulo de Piel (Del 6 al 31 de mayo de 2019).
Impartido en horario de tarde (16:00-20:30 h), cada uno de estos módulos también pueden ser cursados de forma independiente como Cursos de Formación Continua de un mes de duración intensivo; o también en forma de Título de Especialista: Especialista en Diseño de Moda (tres módulos de Patronaje, Confección y Diseño de Moda) y Especialista en Diseño de Moda Avanzado - Técnicas y Materiales (tres módulos de Punto, Lencería y Corsetería, y Piel).
Cada uno de estos módulos también pueden ser cursados de forma independiente como Cursos de Formación Continua, o en forma de Título de Especialista.
. |
