pix pix pix pix1 pix pix2 pix pix3 pix pix4 pix pix5 pix pix6 pix pix7 pix pix8 pix pix
  CSDMM inicio csdmm grado doblegrado masters lineavertical admision lineavertical internacional lineavertical noticias lineavertical  
 
pixblack
Politecnica
pixblack
 
 
 

MÁSTER OFICIAL
Máster Oficial en Tecnnología e Innovación en Diseño de Moda por la Universidad Politécnica de Madrid

- INFORMACIÓN GENERAL

• Presentación y descripción del título
• Plan para la vuelta a la actividad presencial

- ADMISIÓN
• Acceso y admisión

- PLAN DE ESTUDIOS
Plan de estudios
Complementos formativos
• Guías de aprendizaje
• Calendario académico
• Horarios docentes
• Calendario de exámenes
• Master Talks

- TRABAJO FIN DE MÁSTER (TFM)
• Normativa de TFM
• Guía de TFM
• Anexos descargables

- PERSONAL ACADÉMICO
• Profesorado

- SISTEMA DE GARANTÍA DE CALIDAD
• Comisiones de calidad
• Memoria del Máster en Tecnología e Innovación en Diseño de Moda por la UPM y Normativa UPM
y Normativa UPM



pixblack


TÍTULOS PROPIOS
Máster Propio en Diseño de Moda

CURSOS DE ESPECIALIZACIÓN
Especialista en Diseño de Moda
Especialista en Diseño de Moda Avanzado - Técnicas y Materiales

CURSOS INTENSIVOS
• Curso en Patronaje
• Curso en Confección
• Curso en Diseño de Moda
• Curso en Lencería y Corsetería
• Curso en Punto
• Curso en Piel

CURSOS DE VERANO
• Fashion Camp en Diseño de Moda
• Curso Internacional en Fashion Styling

INVESTIGACIÓN
• Jornadas Científicas
• Congresos Internacionales

• Revista DDM

BUZÓN DE SUGERENCIAS Y QUEJAS
• Contacto

 
 
 
 
  pixblack  
 
CSDMM
Campus Sur, Ctra. de Valencia Km.7, Bloque 1
28031 Madrid
T: (+34) 913.31.01.26

©2012 CSDMM.
Todos los derechos reservados.

Aviso Legal . Politica cookies